ISBN-13: 9783838127873 / Niemiecki / Miękka / 2011 / 192 str.
Die homogene Beschichtung von Substraten mit widerstands-fahigen Maskenmaterialien ist ein Schlusselschritt in der Halbleitertechnologie. Dieses Buch befasst sich mit dem okonomisch vorteilhaften Spin-Coating-Verfahren zur Applikation von geeigneten Zirkoniumdioxid-Schichten auf 300 mm Silizium-Wafern. Ausgehend von flussigen Solen werden uber Sol-Gel-Transformation feste Schichten erhalten, deren Eigenschaften fur die Anwendung einstellbar sind. Mittels der entwickelten Beschichtungsstrategien sind nanokristalline Zirkoniumdioxid-Filme zuganglich, deren ausgezeichnete Dichte- und Harte-eigenschaften den Weg zum Einsatz als Hartmaskenmaterialien ebnen. Das Anwendungspotential wird anhand spezifischer Atzversuche gezeigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen gewonnenen Erkenntnisse liefern einen essentiellen Beitrag zum Verstandnis des Temperverhaltens von Sol-Gel-Schichten."
Die homogene Beschichtung von Substraten mit widerstands-fähigen Maskenmaterialien ist ein Schlüsselschritt in der Halbleitertechnologie. Dieses Buch befasst sich mit dem ökonomisch vorteilhaften Spin-Coating-Verfahren zur Applikation von geeigneten Zirkoniumdioxid-Schichten auf 300 mm Silizium-Wafern. Ausgehend von flüssigen Solen werden über Sol-Gel-Transformation feste Schichten erhalten, deren Eigenschaften für die Anwendung einstellbar sind. Mittels der entwickelten Beschichtungsstrategien sind nanokristalline Zirkoniumdioxid-Filme zugänglich, deren ausgezeichnete Dichte- und Härte-eigenschaften den Weg zum Einsatz als Hartmaskenmaterialien ebnen. Das Anwendungspotential wird anhand spezifischer Ätzversuche gezeigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen gewonnenen Erkenntnisse liefern einen essentiellen Beitrag zum Verständnis des Temperverhaltens von Sol-Gel-Schichten.