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Science Education
ISBN: 9786202527651 / Angielski / Miękka / 2020 / 228 str. Termin realizacji zamówienia: ok. 10-14 dni roboczych. |
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cena:
348,01 zł |
Film dielettrici high-k di ossido di tantalio drogato con zirconio per dispositivi MOS
ISBN: 9786205216873 / Włoski / Miękka / 52 str. Termin realizacji zamówienia: ok. 10-14 dni roboczych. |
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162,47 zł |
Mit Zirkonium dotierte Tantaloxid-High-k-Dielektrikumsschichten für MOS-Bauelemente
ISBN: 9786205216972 / Miękka / 52 str. Termin realizacji zamówienia: ok. 10-14 dni roboczych. Dielektrika mit hoher Dielektrizitätskonstante und geeignete Substrate werden im Hinblick auf ihre Verwendung im VLSI-Design intensiv untersucht. Ein neuartiges gemischtes High-k-Gate-Dielektrikum, d.h. zirkoniumdotiertes Tantaloxid (Zr-dotiertes TaOx) und Hafnium-dotiertes Tantaloxid (Hf-dotiertes TaOx), wurde für künftige MOSFET-Anwendungen eingehend untersucht. Abscheidung eines neuen High-k-Gate-Dielektrikums durch Mischung von Ta2O5 mit ZrO2 und HfO2 mittels Co-Sputtertechnik, um die Anforderungen an thermodynamische Stabilität, einen großen Bereich der Übergangstemperatur von...
Dielektrika mit hoher Dielektrizitätskonstante und geeignete Substrate werden im Hinblick auf ihre Verwendung im VLSI-Design intensiv untersucht. Ein...
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cena:
162,47 zł |
Filmes dieléctricos de alto teor de óxido de zircónio dopado de óxido de tântalo para dispositivos MOS
ISBN: 9786205216880 / Portugalski / Miękka / 52 str. Termin realizacji zamówienia: ok. 10-14 dni roboczych. |
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cena:
162,47 zł |
Films diélectriques à haute valeur k en oxyde de tantale dopé au zirconium pour dispositifs MOS
ISBN: 9786205216996 / Francuski / Miękka / 52 str. Termin realizacji zamówienia: ok. 10-14 dni roboczych. Les diélectriques à haute permittivité et les substrats appropriés font l'objet d'études intensives en vue de leur utilisation dans la conception de VLSI. Un nouveau matériau diélectrique de grille mixte à haute k, c'est-à-dire l'oxyde de tantale dopé au zirconium (TaOx dopé au Zr) et l'oxyde de tantale dopé au hafnium (TaOx dopé au Hf), a été étudié de manière approfondie pour les futures applications MOSFET. Dépôt d'un nouveau diélectrique de grille à k élevé par mélange de Ta2O5 avec du ZrO2 et du HfO2 en utilisant la technique de co-pulvérisation, afin...
Les diélectriques à haute permittivité et les substrats appropriés font l'objet d'études intensives en vue de leur utilisation dans la conception...
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cena:
162,47 zł |
My Name Is Bot "the Robot": The Future of Iron Man
ISBN: 9781070997308 / Angielski Termin realizacji zamówienia: ok. 13-18 dni roboczych. |
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cena:
66,02 zł |
Principles of Deep Robotics
ISBN: 9781070580845 / Angielski Termin realizacji zamówienia: ok. 13-18 dni roboczych. |
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cena:
56,87 zł |
Data Science and Machine Learning
ISBN: 9781655848049 / Angielski Termin realizacji zamówienia: ok. 13-18 dni roboczych. |
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cena:
132,69 zł |
Crazy People Crazy World: Change the World
ISBN: 9781707218639 / Angielski Termin realizacji zamówienia: ok. 13-18 dni roboczych. |
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cena:
54,90 zł |
A Life in Mars on Earth: Mark My Words
ISBN: 9781686679650 / Angielski Termin realizacji zamówienia: ok. 13-18 dni roboczych. |
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cena:
35,96 zł |