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Synchrotron Nanobeam Experimente an Crn Multilayerschichten
ISBN-13: 9783639388985 / Niemiecki / Miękka / 2012 / 64 str.
In der vorliegenden Arbeit werden Texturgradienten an CrN-Schichten gemessen. Dafur wurden 3 Schichten CrN zu je 5 um mit einer Biasspannung von -40 V, -120V bzw. -40V durch Magnetronsputtern auf ein Stahlsubstrat abgeschieden. Die Textur wird durch direkte und indirekte Polfiguren dargestellt. Das ermoglicht die Berechnung der Orientierungsverteilungsfunktion aus dem am Synchrotron gemessenen Debye-Scherrer-Ringen. Die Auswertung zeigt eine 001 Orientierung an der Grenzschicht zum Substrat. Mit weiterer Entfernung zum Substrat geht die 001 Orientierung in eine 101 Orientierung uber, bis sich in der zweiten CrN-Schicht wieder eine 001/101 Mischorientierung bildet. An der Oberflache findet sich eine 101 Orientierung. Bei den Eigenspannungen zeigen sich uber die gesamte Beschichtung Druckspannungen. Im Bereich der zweiten CrN-Schicht, die mit einer Biasspannung von -120V abgeschieden wurde, andert sich die Eigenspannung sprunghaft. Im gleichen Bereich andert sich die Orientierung zur oben erwahnten Mischorientierung. Untersuchungen der Kristallitform ergaben eine Anderung von Kugelform zu einer Stangelform mit zunehmender Entfernung vom Substrat."
In der vorliegenden Arbeit werden Texturgradienten an CrN-Schichten gemessen. Dafür wurden 3 Schichten CrN zu je 5 µm mit einer Biasspannung von -40 V, -120V bzw. -40V durch Magnetronsputtern auf ein Stahlsubstrat abgeschieden. Die Textur wird durch direkte und indirekte Polfiguren dargestellt. Das ermöglicht die Berechnung der Orientierungsverteilungsfunktion aus dem am Synchrotron gemessenen Debye-Scherrer-Ringen. Die Auswertung zeigt eine 001 Orientierung an der Grenzschicht zum Substrat. Mit weiterer Entfernung zum Substrat geht die 001 Orientierung in eine 101 Orientierung über, bis sich in der zweiten CrN-Schicht wieder eine 001/101 Mischorientierung bildet. An der Oberfläche findet sich eine 101 Orientierung. Bei den Eigenspannungen zeigen sich über die gesamte Beschichtung Druckspannungen. Im Bereich der zweiten CrN-Schicht, die mit einer Biasspannung von -120V abgeschieden wurde, ändert sich die Eigenspannung sprunghaft. Im gleichen Bereich ändert sich die Orientierung zur oben erwähnten Mischorientierung. Untersuchungen der Kristallitform ergaben eine Änderung von Kugelform zu einer Stängelform mit zunehmender Entfernung vom Substrat.
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