Optimisation Et Contr�le Du Proc�d� de Projection Plasma » książka
Optimisation Et Contr�le Du Proc�d� de Projection Plasma
ISBN-13: 9786131500404 / Francuski / Miękka / 2018 / 156 str.
La projection thermique A la torche A plasma est un procA(c)dA(c) qui se caractA(c)rise par des phA(c)nomA]nes de fluctuations et des dA(c)rives paramA(c)triques A diffA(c)rents temps caractA(c)ristiques. Dans ces travaux un systA]me expert A base d''intelligence artificielle qui permette d''ajuster en temps rA(c)el les paramA]tres opA(c)ratoires du procA(c)dA(c) en fonction des valeurs mesurA(c)es sur les caractA(c)ristiques des particules (tempA(c)rature et vitesse) a A(c)tA(c) dA(c)veloppA(c). ConsidA(c)rant l''amplitude de ces dA(c)rives et fluctuations, la stratA(c)gie A adopter pour dA(c)velopper ce systA]me dA(c)pend des corrections requises A appliquer aux caractA(c)ristiques en vol des particules. Le systA]me offre la possibilitA(c) d''ajuster les paramA]tres opA(c)ratoires dans le but d''assurer la reproductibilitA(c) du procA(c)dA(c) et A(c)galement, d''optimiser les conditions de la rA(c)alisation du dA(c)pAt en tenant compte des effets de l''usure de l''A(c)lectrode en particulier. Ce systA]me est flexible pour permettre un contrAle total basA(c) sur des rA]gles prA(c)dA(c)finies qui permettent de maintenir A valeurs constantes les caractA(c)ristiques en vol des particules en ajustant en temps rA(c)el l''intensitA(c) du courant d''arc, le dA(c)bit total des gaz plasmagA]nes et la fraction d''hydrogA]ne.
La projection thermique à la torche à plasma est un procédé qui se caractérise par des phénomènes de fluctuations et des dérives paramétriques à différents temps caractéristiques. Dans ces travaux un système expert à base dintelligence artificielle qui permette dajuster en temps réel les paramètres opératoires du procédé en fonction des valeurs mesurées sur les caractéristiques des particules (température et vitesse) a été développé. Considérant lamplitude de ces dérives et fluctuations, la stratégie à adopter pour développer ce système dépend des corrections requises à appliquer aux caractéristiques en vol des particules. Le système offre la possibilité dajuster les paramètres opératoires dans le but dassurer la reproductibilité du procédé et également, doptimiser les conditions de la réalisation du dépôt en tenant compte des effets de lusure de lélectrode en particulier. Ce système est flexible pour permettre un contrôle total basé sur des règles prédéfinies qui permettent de maintenir à valeurs constantes les caractéristiques en vol des particules en ajustant en temps réel lintensité du courant darc, le débit total des gaz plasmagènes et la fraction dhydrogène.
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