• Wyszukiwanie zaawansowane
  • Kategorie
  • Kategorie BISAC
  • Książki na zamówienie
  • Promocje
  • Granty
  • Książka na prezent
  • Opinie
  • Pomoc
  • Załóż konto
  • Zaloguj się

Fundamental of micro/nano fabrication » książka

zaloguj się | załóż konto
Logo Krainaksiazek.pl

koszyk

konto

szukaj
topmenu
Księgarnia internetowa
Szukaj
Książki na zamówienie
Promocje
Granty
Książka na prezent
Moje konto
Pomoc
 
 
Wyszukiwanie zaawansowane
Pusty koszyk
Bezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 złBezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 zł

Kategorie główne

• Nauka
 [2946350]
• Literatura piękna
 [1816154]

  więcej...
• Turystyka
 [70666]
• Informatyka
 [151172]
• Komiksy
 [35576]
• Encyklopedie
 [23172]
• Dziecięca
 [611458]
• Hobby
 [135995]
• AudioBooki
 [1726]
• Literatura faktu
 [225763]
• Muzyka CD
 [378]
• Słowniki
 [2917]
• Inne
 [444280]
• Kalendarze
 [1179]
• Podręczniki
 [166508]
• Poradniki
 [469467]
• Religia
 [507199]
• Czasopisma
 [496]
• Sport
 [61352]
• Sztuka
 [242330]
• CD, DVD, Video
 [3348]
• Technologie
 [219391]
• Zdrowie
 [98638]
• Książkowe Klimaty
 [124]
• Zabawki
 [2382]
• Puzzle, gry
 [3525]
• Literatura w języku ukraińskim
 [259]
• Art. papiernicze i szkolne
 [7107]
Kategorie szczegółowe BISAC

Fundamental of micro/nano fabrication

ISBN-13: 9783639703825 / Angielski / Miękka / 2014 / 80 str.

Shrestha Surendra
Fundamental of micro/nano fabrication Shrestha Surendra   9783639703825 Scholars' Press - książkaWidoczna okładka, to zdjęcie poglądowe, a rzeczywista szata graficzna może różnić się od prezentowanej.

Fundamental of micro/nano fabrication

ISBN-13: 9783639703825 / Angielski / Miękka / 2014 / 80 str.

Shrestha Surendra
cena 133,74
(netto: 127,37 VAT:  5%)

Najniższa cena z 30 dni: 133,43
Termin realizacji zamówienia:
ok. 10-14 dni roboczych.

Darmowa dostawa!

In this book, stress dependent thermal wet oxide growth process is described. The oxidation rate of silicon is function of the crystal orientation and the angle of the plane intersection. The silicon surface micromachining processes are described to make a freestanding mechanical structure and unique three-dimensional features. A bulk micromachining and etchant has to be considered during microfabrication.Schematic and SEM micrograph described as metal (aluminum) sputtered on oxide pyramidal cantilever probe to form metallic nano-aperture as well. The theoretical concept of near-field and far-field were explained with the help of fabricated triangular and rectangular NSOM cantilevers array with NSOM probe. In order to reduce the noise level and high optical transmission through the probe, the designed NSOM cantilever probe has bulk Si underneath the probe. To characterize major component for cantilevers are optical transmission through the NSOM probe and resonance frequency. Resonance frequency of the cantilevers is varies with its dimensions.Optical transmission is measured through NSOM cantilevers probe aperture.

In this book, stress dependent thermal wet oxide growth process is described. The oxidation rate of silicon is function of the crystal orientation and the angle of the plane intersection. The silicon surface micromachining processes are described to make a freestanding mechanical structure and unique three-dimensional features. A bulk micromachining and etchant has to be considered during microfabrication.Schematic and SEM micrograph described as metal (aluminum) sputtered on oxide pyramidal cantilever probe to form metallic nano-aperture as well. The theoretical concept of near-field and far-field were explained with the help of fabricated triangular and rectangular NSOM cantilevers array with NSOM probe. In order to reduce the noise level and high optical transmission through the probe, the designed NSOM cantilever probe has bulk Si underneath the probe. To characterize major component for cantilevers are optical transmission through the NSOM probe and resonance frequency. Resonance frequency of the cantilevers is varies with its dimensions.Optical transmission is measured through NSOM cantilevers probe aperture.

Kategorie:
Technologie
Kategorie BISAC:
Technology & Engineering > Electronics - General
Wydawca:
Scholars' Press
Język:
Angielski
ISBN-13:
9783639703825
Rok wydania:
2014
Ilość stron:
80
Waga:
0.13 kg
Wymiary:
22.86 x 15.24 x 0.48
Oprawa:
Miękka
Wolumenów:
01

Post Doctorate: Garphene Based Technology, ETSI, ISOM, University Polytechnica de Madrid, Spain PhD in Major: Nanoscience, Department of Physics, The Graduate School, Sun Moon University, S. Korea Associate Professor, Department of Electronics and Computer Engineering, Pulchowk Campus, Institute of Engineering,T.U., Nepal



Udostępnij

Facebook - konto krainaksiazek.pl



Opinie o Krainaksiazek.pl na Opineo.pl

Partner Mybenefit

Krainaksiazek.pl w programie rzetelna firma Krainaksiaze.pl - płatności przez paypal

Czytaj nas na:

Facebook - krainaksiazek.pl
  • książki na zamówienie
  • granty
  • książka na prezent
  • kontakt
  • pomoc
  • opinie
  • regulamin
  • polityka prywatności

Zobacz:

  • Księgarnia czeska

  • Wydawnictwo Książkowe Klimaty

1997-2026 DolnySlask.com Agencja Internetowa

© 1997-2022 krainaksiazek.pl
     
KONTAKT | REGULAMIN | POLITYKA PRYWATNOŚCI | USTAWIENIA PRYWATNOŚCI
Zobacz: Księgarnia Czeska | Wydawnictwo Książkowe Klimaty | Mapa strony | Lista autorów
KrainaKsiazek.PL - Księgarnia Internetowa
Polityka prywatnosci - link
Krainaksiazek.pl - płatnośc Przelewy24
Przechowalnia Przechowalnia