Die Ellipsometrie ist ein Messverfahren zur Oberflächencharakterisierung und Dünnschichtmessung von ebenen Oberflächen unter Verwendung von polarisiertem Licht. Ein neues Messprinzip basierend auf Lichtwegumkehrung und Retroreflexion ermöglicht jedoch die Erfassung von beliebigen Freiformflächen. Dieses neue Messprinzip und damit verbundene Fragestellungen zur Messabbildung, Auswertealgorithmik und Mehrdeutigkeiten sowie Freiheitsgrade der Lösungsmenge werden in dieser Arbeit untersucht. Ellipsometry is a measuring method for surface characterization and thin-film measurement of flat...