• Wyszukiwanie zaawansowane
  • Kategorie
  • Kategorie BISAC
  • Książki na zamówienie
  • Promocje
  • Granty
  • Książka na prezent
  • Opinie
  • Pomoc
  • Załóż konto
  • Zaloguj się

Edward V. Barnat - książki

zaloguj się | załóż konto
Logo Krainaksiazek.pl

koszyk

konto

szukaj
topmenu
Księgarnia internetowa
Szukaj
Książki na zamówienie
Promocje
Granty
Książka na prezent
Moje konto
Pomoc
 
 
Wyszukiwanie zaawansowane
Pusty koszyk
Bezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 złBezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 zł

Kategorie główne

• Nauka
 [2948695]
• Literatura piękna
 [1824038]

  więcej...
• Turystyka
 [70868]
• Informatyka
 [151073]
• Komiksy
 [35227]
• Encyklopedie
 [23181]
• Dziecięca
 [621575]
• Hobby
 [138961]
• AudioBooki
 [1642]
• Literatura faktu
 [228651]
• Muzyka CD
 [371]
• Słowniki
 [2933]
• Inne
 [445341]
• Kalendarze
 [1243]
• Podręczniki
 [164416]
• Poradniki
 [479493]
• Religia
 [510449]
• Czasopisma
 [502]
• Sport
 [61384]
• Sztuka
 [243086]
• CD, DVD, Video
 [3417]
• Technologie
 [219673]
• Zdrowie
 [100865]
• Książkowe Klimaty
 [124]
• Zabawki
 [2168]
• Puzzle, gry
 [3372]
• Literatura w języku ukraińskim
 [260]
• Art. papiernicze i szkolne
 [7838]
Kategorie szczegółowe BISAC
 Pulsed and Pulsed Bias Sputtering: Principles and Applications Barnat, Edward V. 9781402075438 Springer
Pulsed and Pulsed Bias Sputtering: Principles and Applications

Barnat, Edward V.
Diffusion Barrier Stack - 5 nm -3 nm -2 nm: . . . -. . . .: . . O. 21-lm Figure 2: Schematic representing a cross-sectional view of the topography that is encountered in the processing of integrated circuits. (Not to scale) these sub-micron sized features is depicted in Fig. 2. The role of the diffusion barrier is to prevent the diffusion of metallic ions into the interlayer dielectric (lLD). Depending on the technology, in particular the choice of the ILD and the metal interconnect, the diffusion barrier may be Ti, Ta, TiN, TaN, or a multi-layered structure of these materials. The adhesion...
Diffusion Barrier Stack - 5 nm -3 nm -2 nm: . . . -. . . .: . . O. 21-lm Figure 2: Schematic representing a cross-sectional view of the topography tha...
cena: 401,58
 Pulsed and Pulsed Bias Sputtering: Principles and Applications Barnat, Edward V. 9781461350637 Springer
Pulsed and Pulsed Bias Sputtering: Principles and Applications

Barnat, Edward V.
Diffusion Barrier Stack - 5 nm -3 nm -2 nm: . . . -. . . .: . . O. 21-lm Figure 2: Schematic representing a cross-sectional view of the topography that is encountered in the processing of integrated circuits. (Not to scale) these sub-micron sized features is depicted in Fig. 2. The role of the diffusion barrier is to prevent the diffusion of metallic ions into the interlayer dielectric (lLD). Depending on the technology, in particular the choice of the ILD and the metal interconnect, the diffusion barrier may be Ti, Ta, TiN, TaN, or a multi-layered structure of these materials. The adhesion...
Diffusion Barrier Stack - 5 nm -3 nm -2 nm: . . . -. . . .: . . O. 21-lm Figure 2: Schematic representing a cross-sectional view of the topography tha...
cena: 401,58


Facebook - konto krainaksiazek.pl



Opinie o Krainaksiazek.pl na Opineo.pl

Partner Mybenefit

Krainaksiazek.pl w programie rzetelna firma Krainaksiaze.pl - płatności przez paypal

Czytaj nas na:

Facebook - krainaksiazek.pl
  • książki na zamówienie
  • granty
  • książka na prezent
  • kontakt
  • pomoc
  • opinie
  • regulamin
  • polityka prywatności

Zobacz:

  • Księgarnia czeska

  • Wydawnictwo Książkowe Klimaty

1997-2026 DolnySlask.com Agencja Internetowa

© 1997-2022 krainaksiazek.pl
     
KONTAKT | REGULAMIN | POLITYKA PRYWATNOŚCI | USTAWIENIA PRYWATNOŚCI
Zobacz: Księgarnia Czeska | Wydawnictwo Książkowe Klimaty | Mapa strony | Lista autorów
KrainaKsiazek.PL - Księgarnia Internetowa
Polityka prywatnosci - link
Krainaksiazek.pl - płatnośc Przelewy24
Przechowalnia Przechowalnia