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Rechnergestützter Layoutentwurf von Hybridschaltungen: Widerstandsberechnung, Entwurfsschritte, Layoutüberprüfung » książka

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Kategorie szczegółowe BISAC

Rechnergestützter Layoutentwurf von Hybridschaltungen: Widerstandsberechnung, Entwurfsschritte, Layoutüberprüfung

ISBN-13: 9783540506553 / Niemiecki / Miękka / 1989 / 134 str.

Wolfgang Roßmann
Rechnergestützter Layoutentwurf von Hybridschaltungen: Widerstandsberechnung, Entwurfsschritte, Layoutüberprüfung Wolfgang Roßmann 9783540506553 Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH &  - książkaWidoczna okładka, to zdjęcie poglądowe, a rzeczywista szata graficzna może różnić się od prezentowanej.

Rechnergestützter Layoutentwurf von Hybridschaltungen: Widerstandsberechnung, Entwurfsschritte, Layoutüberprüfung

ISBN-13: 9783540506553 / Niemiecki / Miękka / 1989 / 134 str.

Wolfgang Roßmann
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Die Moglichkeiten zur Rechnerunterstutzung beim Layoutentwurf hybrider Schichtschaltungen, dem Bindeglied zwischen Leiterplatten- und Integrationstechnik, werden in einem verstandlichen und umfassenden Uberblick vorgestellt. Es ist beschrieben, wie die einzelnen Arbeitsschritte mit Hilfe neuer Algorithmen und Vorgehensweisen wesentlich unterstutzt oder gar ganz automatisiert werden konnen. Die Widerstandsberechnung wird unter Berucksichtigung aller fur die Dimensionierung wichtigen technologischen Einflusse behandelt. Anschlieend werden Grundlagen fur die interaktive Plazierung und ein neuer Ansatz zur automatischen Verdrahtung vorgestellt. Der Prufung und Weiterverarbeitung des Layouts dienen die vorgestellten neuen Verfahren der Entwurfsregelprufung, Kompaktierung und Maskengenerierung. Alle Themen sind speziell auf die besonderen Anforderungen in der Hybridtechnik abgestimmt. Sowohl dem Entwickler als auch dem Anwender von CAD-Verfahren werden fur alle Stufen im Layoutentwurf neue Losungen vermittelt und an Beispielen erlautert.

Kategorie:
Technologie
Kategorie BISAC:
Technology & Engineering > Electronics - General
Technology & Engineering > Telecommunications
Wydawca:
Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH &
Język:
Niemiecki
ISBN-13:
9783540506553
Rok wydania:
1989
Dostępne języki:
Niemiecki
Ilość stron:
134
Waga:
0.36 kg
Wymiary:
24.424.4 x 17.0
Oprawa:
Miękka
Wolumenów:
01

1 Einleitung.- 1.1 Grundlagen der Hybridtechnologie.- 1.2 Entwurfsschritte bei der Layouterstellung für Hybridtechnologie.- 1.3 Stand der Technik auf dem Gebiet Rechnerunterstützung.- 1.4 Zielsetzung und Gliederung des Buches.- 2 Rechnerunterstützung Beim Elementeentwurf.- 2.1 Widerstandsentwurf.- 2.1.1 Grundlagen.- 2.1.2 Berücksichtigung technologisch bedingter Abweichungen.- 2.1.3 Approximation von Meßwerten.- 2.1.4 Trimmschnittsimulation.- 2.1.5 Einfluß dielektrischer Schichten.- 2.2 Kondensatoren.- 2.2.1 Schichtkondensatoren.- 2.2.2 Isoplanare Leiter.- 2.3 Induktivitäten.- 3 Interaktiver Layoutentwurf.- 3.1 Vorgehensweise beim interaktiven Piazieren und Verdrahten.- 3.2 Forderungen an ein interaktives Entwurfssystem.- 3.2.1 Grundelemente.- 3.2.2 Interaktionsmöglichkeiten.- 3.3 Datenstrukturen zur Repräsentation von Layoutbildern.- 3.3.1 Verkettete Auflistung der Elemente.- 3.3.2 Sortierte Anordnung.- 3.3.3 Hierarchische Strukturen.- 3.3.4 Strukturierung mit einem Gitter.- 3.3.5 Vernetzte Strukturen.- 4 Automatische Verdrahtung.- 4.1 Verdrahtungshilfen bei interaktiven Eingriffen.- 4.1.1 Einfügen neuer Verbindungen.- 4.1.2 Automatische Leiterbahnnachführung.- 4.2 Vollautomatische Verdrahtung mit einem Standardverfahren.- 4.2.1 Auswahl des Verfahrens.- 4.2.2 Vorgaben für die Verdrahtungsaufgabe.- 4.2.3 Wegfindung.- 4.3 Angepaßtes Gitter für eine rastergebundene Verdrahtung.- 4.4 Neues rasterfreies Zonensuchverfahren.- 5 Entwurfsregelprüfung.- 5.1 Geometrische Entwurfsregeln.- 5.2 Prinzipielle Methoden der Layoutüberprüfung.- 5.2.1 Direkte Verfahren.- 5.2.2 Merkmalsgewinnung und -prüfung.- 5.3 Hilfsmittel zur Merkmalsgewinnung.- 5.3.1 Darstellung der Elemente als Polygone.- 5.3.2 Bestimmung des Flächenbelags.- 5.3.3 Logische Operationen.- 5.3.4 Geometrische Operationen.- 5.4 Verfahren zur Prüfung der Merkmale.- 5.4.1 Mindestabstand.- 5.4.2 Mindestbreite.- 5.5 Komplexitätsbetrachtungen.- 5.6 Erzeugung neuer Maskenebenen.- 6 Kompaktierung.- 6.1 Verdichtung orthogonaler Strukturen.- 6.2 Verdichtung allgemeiner Polygone.- 6.2 Komplexitätsabschätzung.- 7 Maskenerzeugung.- 8 Layout-Beispiel.- 9 Zusammenfassung.



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