Primenenie Ionno-Luchevogo Travleniya Pri Udalenii Passivatsii Mikroskhem

ISBN-13: 9783659207068 / Rosyjski / Miękka / 2014 / 88 str.

Abdullaev Daniil

Opis

V dannoy rabote privedyen analiticheskiy obzor otechestvennoy i zarubezhnoy literatury po metodu sukhogo vakuumnogo travleniya materialov, predstavlen obzor primenyaemoy metodiki issledovaniya. V rabote predstavleny rezultaty optimizatsii protsessov reaktivno-ionnogo plazmennogo i ionno-luchevogo travleniya passivatsionnykh sloyev integralnykh mikroskhem v ramkakh tekhnologii analiza otkazov. V organizatsionno-ekonomicheskoy chasti predstavleny raschyety stoimosti i tselesoobraznosti dannykh issledovaniy. Rezultatom provedyennoy raboty stala novaya metodika udaleniya passivatsionnykh sloyev integralnykh mikroskhem v ramkakh tekhnologii analiza otkazov, otlichayushchayasya ot sushchestvuyushchikh vysokoy stepenyu planarizatsii poverkhnosti kristalla integralnoy skhemy pri minimalnom povrezhdenii mezhsloynogo dielektrika.

O autorze

S otlichiem okonchil MGTU MIREA fakul'tet elektroniki po spetsial'nosti "nanotekhnologii v elektronike". Sotrudnik laboratorii UNO "Elektronika". Oblast' issledovaniy: provedenie analiza otkazov integral'nykh mikroskhem metodom posloynogo preparirovaniya.