Silizium-Planartechnologie: Grundprozesse, Physik Und Bauelemente

ISBN-13: 9783519004677 / Niemiecki / Miękka / 2003 / 212 str.

Hans-G Nther Wagemann; Tim Sch Nauer

Opis

Die Grundlagen der Mikroelektronik werden kompakt und in leicht verstandlicher Form vorgestellt. Der Leser erfahrt, wie integrierte Schaltkreise hergestellt werden, wie sie funktionieren und welche Bauelemente sich realisieren lassen."

Spis treści

Technologische Grundprozesse - Grundlagen der Halbleiterphysik für Siliziumbauelemente - Integrierte Widerstände und Kondensatoren - Der pn-Übergang - Der Metall-Halbleiter-Kontakt - Die Halbleiteroberfläche anhand des MOS-Varaktors - Der reale MOS-Transistor - Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen

O autorze

Prof. Dr.-Ing. Dr. h.c. H.G. Wagemann, TU Berlin
Dr. Tim Schönauer, Infineon Technologies AG

Blurb

Die Grundlagen der Mikroelektronik werden kompakt und in leicht verständlicher Form vorgestellt. Der Leser erfährt, wie integrierte Schalkreise hergestellt werden, wie sie funktionieren und wie ihre Grundelemente physikalisch beschrieben werden können. Aufgrund der großen Bedeutung von Simulationsprogrammen in der Silizium-Planartechnologie wird ergänzend auf CAD-Werkzeuge von der Prozesssimulation (z. B. ISE-TCAD) bis hin zur Schaltungssimulation (z. B. SPICE) eingegangen.