Polarisationseffekte in Gruppe-(III)-Nitriden : Anwendung in p-Kanal FETs und elektromechanischen Strukturen

ISBN-13: 9783838113371 / Niemiecki / Miękka / 2010 / 176 str.

Tom Zimmermann

Opis

Neuartige p-2DHG-Kanal GaN/InGaN/GaN HEMT Strukturen als auch Mikroelektromechanische GaN und AlGaN/GaN Sensorstrukturen (MEMS) wurden unter Ausnutzung der spontanen und piezoelektrischen Polarisation in Gruppe-(III)-Nitriden entwickelt und charakterisiert. Niederohmige ohmsche p-Typ Kontakte bestehend aus Au/Ni/Au oder NiPd/Au konnten ein 2DHG in einer rein polarisationsdotierten InGaN/GaN Heterostruktur kontaktieren. 2DHG-Kanal HEMTs wurden temperaturabhängig charakterisiert und CV- als auch Hall-Messungen bestätigten die Existenz eines 2DHG Kanals in der InGaN/GaN Heterostruktur. Außerdem wurden freistehende GaN-Membran Strukturen auf (111)- Silizium Substrat technologisch realisiert. Interessante Polarisationseffekte in GaN-MEMS wurden durch mechanischen Stress induziert.

O autorze

Tom Zimmermann erhielt sein Diplom(Elektrotechnik) 2002 und promovierte 2008 bei Prof. Kohn an der Universität Ulm. Bereits 2000 beschäftigte er sich mit Bauelementen (HEMTs, MEMS) basierend auf dem Gruppe-(III)-Nitrid Materialsystem und führt dies seither an der Universität Notre Dame(USA) als Visiting Research Assistant Professor fort.