• Wyszukiwanie zaawansowane
  • Kategorie
  • Kategorie BISAC
  • Książki na zamówienie
  • Promocje
  • Granty
  • Książka na prezent
  • Opinie
  • Pomoc
  • Załóż konto
  • Zaloguj się

Ohmic Contact on Ternary ZnSxSe1-x Epilayers » książka

zaloguj się | załóż konto
Logo Krainaksiazek.pl

koszyk

konto

szukaj
topmenu
Księgarnia internetowa
Szukaj
Książki na zamówienie
Promocje
Granty
Książka na prezent
Moje konto
Pomoc
 
 
Wyszukiwanie zaawansowane
Pusty koszyk
Bezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 złBezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 zł

Kategorie główne

• Nauka
 [2949965]
• Literatura piękna
 [1857847]

  więcej...
• Turystyka
 [70818]
• Informatyka
 [151303]
• Komiksy
 [35733]
• Encyklopedie
 [23180]
• Dziecięca
 [617748]
• Hobby
 [139972]
• AudioBooki
 [1650]
• Literatura faktu
 [228361]
• Muzyka CD
 [398]
• Słowniki
 [2862]
• Inne
 [444732]
• Kalendarze
 [1620]
• Podręczniki
 [167233]
• Poradniki
 [482388]
• Religia
 [509867]
• Czasopisma
 [533]
• Sport
 [61361]
• Sztuka
 [243125]
• CD, DVD, Video
 [3451]
• Technologie
 [219309]
• Zdrowie
 [101347]
• Książkowe Klimaty
 [123]
• Zabawki
 [2362]
• Puzzle, gry
 [3791]
• Literatura w języku ukraińskim
 [253]
• Art. papiernicze i szkolne
 [7933]
Kategorie szczegółowe BISAC

Ohmic Contact on Ternary ZnSxSe1-x Epilayers

ISBN-13: 9783639201321 / Angielski / Miękka / 2009 / 140 str.

Tsung-Hsiang Shih
Ohmic Contact on Ternary ZnSxSe1-x Epilayers Shih, Tsung-Hsiang 9783639201321 VDM Verlag - książkaWidoczna okładka, to zdjęcie poglądowe, a rzeczywista szata graficzna może różnić się od prezentowanej.

Ohmic Contact on Ternary ZnSxSe1-x Epilayers

ISBN-13: 9783639201321 / Angielski / Miękka / 2009 / 140 str.

Tsung-Hsiang Shih
cena 264,53 zł
(netto: 251,93 VAT:  5%)

Najniższa cena z 30 dni: 264,53 zł
Termin realizacji zamówienia:
ok. 10-14 dni roboczych
Bez gwarancji dostawy przed świętami

Darmowa dostawa!

High quality ZnS0.06Se0.94 epilayer which was lattice-matched to GaAs substrate has been prepared. The sulfur composition x was 0.06 has been determined by EPMA. The FWHM of X-ray diffraction was 187.2 arcsec. ITO film formed by thermal evaporated In-Sn alloy first, then annealing in O2 atmosphere. The conductivity and transparency of ITO have been trade-off at acceptable parameter. Because of the highest current in I-V characteristic in the structure of ITO/ZnS0.06Se0.94: N, we optimized the annealing temperature and time at 450C for 60min in O2 atmosphere. Because of the excellent transparency and conductivity in the structure of ITO/Glass, we optimized the annealing temperature and time at 650C for 60min in O2 atmosphere. In this study, ITO/ZnS0.06Se0.94: Cl/ZnSe/ZnS0.06Se0.94: N/GaAs: Zn/Au- Zn double heterojunction (DH) structure has been prepared after annealing In- Sn/ZnS0.06Se0.94: Cl/ZnSe/ZnS0.06Se0.94: N/GaAs: Zn/Au- Zn in O2 atmosphere. I-V characteristic of DH junction structure shows a diode electric property.

High quality ZnS0.06Se0.94 epilayer which was lattice-matched to GaAs substrate has been prepared. The sulfur composition x was 0.06 has been determined by EPMA. The FWHM of X-ray diffraction was 187.2 arcsec. ITO film formed by thermal evaporated In-Sn alloy first, then annealing in O2 atmosphere. The conductivity and transparency of ITO have been trade-off at acceptable parameter. Because of the highest current in I-V characteristic in the structure of ITO/ZnS0.06Se0.94:N, we optimized the annealing temperature and time at 450C for 60min in O2 atmosphere. Because of the excellent transparency and conductivity in the structure of ITO/Glass, we optimized the annealing temperature and time at 650C for 60min in O2 atmosphere. In this study, ITO/ZnS0.06Se0.94:Cl/ZnSe/ZnS0.06Se0.94:N/GaAs:Zn/Au- Zn double heterojunction (DH) structure has been prepared after annealing In- Sn/ZnS0.06Se0.94:Cl/ZnSe/ZnS0.06Se0.94:N/GaAs:Zn/Au- Zn in O2 atmosphere. I-V characteristic of DH junction structure shows a diode electric property.

Kategorie:
Technologie
Kategorie BISAC:
Technology & Engineering > Electronics - General
Wydawca:
VDM Verlag
Język:
Angielski
ISBN-13:
9783639201321
Rok wydania:
2009
Ilość stron:
140
Waga:
0.21 kg
Wymiary:
22.86 x 15.24 x 0.84
Oprawa:
Miękka
Wolumenów:
01

Tsung-Hsiang Shih was born in Yilan, Taiwan, in 1977. He received M.S. and Ph.D degrees from the Department of EE at National Sun Yat-sen University in 2001 and 2006, respectively. He is an IEEE member. He currently worked in AUO and involved in the research on Oxide TFT, OLED, MOS, nanotechnology, compound semiconductor materials and devices.



Udostępnij

Facebook - konto krainaksiazek.pl



Opinie o Krainaksiazek.pl na Opineo.pl

Partner Mybenefit

Krainaksiazek.pl w programie rzetelna firma Krainaksiaze.pl - płatności przez paypal

Czytaj nas na:

Facebook - krainaksiazek.pl
  • książki na zamówienie
  • granty
  • książka na prezent
  • kontakt
  • pomoc
  • opinie
  • regulamin
  • polityka prywatności

Zobacz:

  • Księgarnia czeska

  • Wydawnictwo Książkowe Klimaty

1997-2025 DolnySlask.com Agencja Internetowa

© 1997-2022 krainaksiazek.pl
     
KONTAKT | REGULAMIN | POLITYKA PRYWATNOŚCI | USTAWIENIA PRYWATNOŚCI
Zobacz: Księgarnia Czeska | Wydawnictwo Książkowe Klimaty | Mapa strony | Lista autorów
KrainaKsiazek.PL - Księgarnia Internetowa
Polityka prywatnosci - link
Krainaksiazek.pl - płatnośc Przelewy24
Przechowalnia Przechowalnia