Modelagem Computacional de Reatores CVD para Filmes de Diamante : Uma abordagem interdisciplinar da Engenharia

ISBN-13: 9783330729544 / Portugalski / Miękka / 2016 / 124 str.

Juan Carlos Alvarado Alcocer

Opis

Os processos de deposição química a partir da fase vapor (CVD) do diamante são extremamente complexos. Devido a essa complexidade o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utilização de modelagens computacionais adequados. Neste trabalho se encontra uma modelagem sofisticada de um reator CVD para crescimento de filmes de diamante e se desenvolve um protótipo de simulador computacional para ajudar na resolução das equações diferenciais encontradas. Também há dados sobre as espécies químicas envolvidas. Finalmente apresenta-se uma série de resultados de simulações.

O autorze

Graduado em Física pela Universidad de Costa Rica - UCR.Doutor em engenharia elétrica pela Universidade Estadual de Campinas - UNICAMPAtualmente é professor do IEDS da Universidade da Integração Internacional da Lusofonia Afro-Brasileira (UNILAB). È o atual coordenador do Mestrado em Sociobiodiversidade e Tecnologias Sustentáveis - MASTS.