• Wyszukiwanie zaawansowane
  • Kategorie
  • Kategorie BISAC
  • Książki na zamówienie
  • Promocje
  • Granty
  • Książka na prezent
  • Opinie
  • Pomoc
  • Załóż konto
  • Zaloguj się

Heterostructures on Silicon: One Step Further with Silicon » książka

zaloguj się | załóż konto
Logo Krainaksiazek.pl

koszyk

konto

szukaj
topmenu
Księgarnia internetowa
Szukaj
Książki na zamówienie
Promocje
Granty
Książka na prezent
Moje konto
Pomoc
 
 
Wyszukiwanie zaawansowane
Pusty koszyk
Bezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 złBezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 zł

Kategorie główne

• Nauka
 [2946600]
• Literatura piękna
 [1856966]

  więcej...
• Turystyka
 [72221]
• Informatyka
 [151456]
• Komiksy
 [35826]
• Encyklopedie
 [23190]
• Dziecięca
 [619653]
• Hobby
 [140543]
• AudioBooki
 [1577]
• Literatura faktu
 [228355]
• Muzyka CD
 [410]
• Słowniki
 [2874]
• Inne
 [445822]
• Kalendarze
 [1744]
• Podręczniki
 [167141]
• Poradniki
 [482898]
• Religia
 [510455]
• Czasopisma
 [526]
• Sport
 [61590]
• Sztuka
 [243598]
• CD, DVD, Video
 [3423]
• Technologie
 [219201]
• Zdrowie
 [101638]
• Książkowe Klimaty
 [124]
• Zabawki
 [2473]
• Puzzle, gry
 [3898]
• Literatura w języku ukraińskim
 [254]
• Art. papiernicze i szkolne
 [8170]
Kategorie szczegółowe BISAC

Heterostructures on Silicon: One Step Further with Silicon

ISBN-13: 9789401069007 / Angielski / Miękka / 2011 / 368 str.

Y. Nissim; Emmanuel Rosencher
Heterostructures on Silicon: One Step Further with Silicon Y. Nissim Emmanuel Rosencher 9789401069007 Springer - książkaWidoczna okładka, to zdjęcie poglądowe, a rzeczywista szata graficzna może różnić się od prezentowanej.

Heterostructures on Silicon: One Step Further with Silicon

ISBN-13: 9789401069007 / Angielski / Miękka / 2011 / 368 str.

Y. Nissim; Emmanuel Rosencher
cena 201,72 zł
(netto: 192,11 VAT:  5%)

Najniższa cena z 30 dni: 192,74 zł
Termin realizacji zamówienia:
ok. 22 dni roboczych
Bez gwarancji dostawy przed świętami

Darmowa dostawa!

In the field of logic circuits in microelectronics, the leadership of silicon is now strongly established due to the achievement of its technology. Near unity yield of one million transistor chips on very large wafers (6 inches today, 8 inches tomorrow) are currently accomplished in industry. The superiority of silicon over other material can be summarized as follow: - The Si/Si0 interface is the most perfect passivating interface ever 2 obtained (less than 10" e y-I cm2 interface state density) - Silicon has a large thermal conductivity so that large crystals can be pulled. - Silicon is a hard material so that large wafers can be handled safely. - Silicon is thermally stable up to 1100 C so that numerous metallurgical operations (oxydation, diffusion, annealing ... ) can be achieved safely. - There is profusion of silicon on earth so that the base silicon wafer is cheap. Unfortunatly, there are fundamental limits that cannot be overcome in silicon due to material properties: laser action, infra-red detection, high mobility for instance. The development of new technologies of deposition and growth has opened new possibilities for silicon based structures. The well known properties of silicon can now be extended and properly used in mixed structures for areas such as opto-electronics, high-speed devices. This has been pioneered by the integration of a GaAs light emitting diode on a silicon based structure by an MIT group in 1985."

Kategorie:
Nauka, Fizyka
Kategorie BISAC:
Science > Physics - Condensed Matter
Science > Spectroscopy & Spectrum Analysis
Technology & Engineering > Materials Science - Thin Films, Surfaces & Interfaces
Wydawca:
Springer
Seria wydawnicza:
NATO Science Series E: (Closed)
Język:
Angielski
ISBN-13:
9789401069007
Rok wydania:
2011
Wydanie:
Softcover Repri
Numer serii:
000343614
Ilość stron:
368
Waga:
0.58 kg
Wymiary:
23.5 x 15.5
Oprawa:
Miękka
Wolumenów:
01

GaAs ON Si.- MBE Growth of GaAs and III–V Quantum Wells on Si.- Epitaxy of GaAs on Patterned Si Substrates by MBE.- Embedded Molecular Beam Epitaxy for a Coplanar Gallium-Arsenide on Silicon Technology.- Suppression of Defect Propagation in Heteroepitaxial Structures by Strained Layer Superlattices.- Growth of GaAs and GaAlAs Double Heterostructures on Si by MOCVD.- Developement of MBE for Low Temperature and Lattice-Mismatched Systems Growth of III–V Compounds.- MOMBE and PEMOCVD Growth of GaAs on Si (100) Substrates.- Correlation Between Structural and Optical Properties OF GaAs-on-Si Grown by MBE.- GaAs on Si: Potential Applications.- Other III–V and II–VI on Si.- Ge, GaAs and InSb Heteroepitaxy on (100) Si.- Heteroepitaxy of CdTe on GaAs-ON-Si.- Heteroepitaxial Growth of (Al)GaAs on InP by MOVPE.- SiGe Heterostructures.- SiGe/Si Superlattices: Strain Influence and Devices.- Relaxation of Si/Si1-xGex Strained Layer Structures.- Unstrained vs. Strained Layer Epitaxy: Thick Ge Layers and Ge/Si Superlattices on Si(100).- Direct Band-Gap Si-Based Semiconductors, Principles and Prospects.- Growth and Characterisation of Si/Ge Multilayer Structures on Si(100).- Realisation of Short Period Si/Ge Strained-Layer Superlattices.- Dopant Segregation and Incorporation in Molecular Beam Epitaxy.- Superconductors /Si Heterostructures.- High Tc Superconducting Interconnections in Semiconductor-Based Electronic Systems.- Superconductor-Silicon Heterostructures.- Silicide / Silicon Heterostructures.- Progress in Epitaxial Insulators and Metals on Si.- Growth of CoSi2 and CoSi2/Si Superlattices.- Formation of Epitaxial CoSi2 Films on Si(111) a Low Temperature (?400°C).- Recent Developments in the Epitaxial Growth of Transition Metal Silicides on Silicon.- Formation of Buried Epitaxial Co Silicides by Ion Implantation.- Structural Study of CoSi2/Si (001) and (111).- Growth and Electronic Transport in Thin Epitaxial CoSi2-Si Heterostructures.- Polymers on Si.- Organic Polymers and Molecular Materials on Si.- Organic Polymer Films for Solid State Sensor Applications.- Electrochemical Encapsulation of Solid State Devices.- Silicon Insulators Heterostructures.- Silicon on Insulator.- Complete Experimental and Theoretical Analysis of Electrical Transport of S.O.S. Films: The Particularity of Heavily Doped Samples.- Heteroepitaxial Growth of SiC on Si and its Application.- Nucleation Step of GaAs/Si and GaAs/(Ca,Sr)F2/Si: Aes and Rheed Studies.- Epitaxial CaF2-SrF2-BaF2 Stacks On Si(111) and Si(100).- YSZ Heteroepitaxy on Silicon by Ion Beam Sputtering.- Heteroepitaxy Of Semiconductor/Fluoride/Si Structures.

Rosencher, Emmanuel Emmanuel Rosencher is a highly regarded scientist ... więcej >


Udostępnij

Facebook - konto krainaksiazek.pl



Opinie o Krainaksiazek.pl na Opineo.pl

Partner Mybenefit

Krainaksiazek.pl w programie rzetelna firma Krainaksiaze.pl - płatności przez paypal

Czytaj nas na:

Facebook - krainaksiazek.pl
  • książki na zamówienie
  • granty
  • książka na prezent
  • kontakt
  • pomoc
  • opinie
  • regulamin
  • polityka prywatności

Zobacz:

  • Księgarnia czeska

  • Wydawnictwo Książkowe Klimaty

1997-2025 DolnySlask.com Agencja Internetowa

© 1997-2022 krainaksiazek.pl
     
KONTAKT | REGULAMIN | POLITYKA PRYWATNOŚCI | USTAWIENIA PRYWATNOŚCI
Zobacz: Księgarnia Czeska | Wydawnictwo Książkowe Klimaty | Mapa strony | Lista autorów
KrainaKsiazek.PL - Księgarnia Internetowa
Polityka prywatnosci - link
Krainaksiazek.pl - płatnośc Przelewy24
Przechowalnia Przechowalnia