• Wyszukiwanie zaawansowane
  • Kategorie
  • Kategorie BISAC
  • Książki na zamówienie
  • Promocje
  • Granty
  • Książka na prezent
  • Opinie
  • Pomoc
  • Załóż konto
  • Zaloguj się

Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- And Nano-Technologies » książka

zaloguj się | załóż konto
Logo Krainaksiazek.pl

koszyk

konto

szukaj
topmenu
Księgarnia internetowa
Szukaj
Książki na zamówienie
Promocje
Granty
Książka na prezent
Moje konto
Pomoc
 
 
Wyszukiwanie zaawansowane
Pusty koszyk
Bezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 złBezpłatna dostawa dla zamówień powyżej 20 zł

Kategorie główne

• Nauka
 [2952079]
• Literatura piękna
 [1850969]

  więcej...
• Turystyka
 [71058]
• Informatyka
 [151066]
• Komiksy
 [35579]
• Encyklopedie
 [23181]
• Dziecięca
 [620496]
• Hobby
 [139036]
• AudioBooki
 [1646]
• Literatura faktu
 [228729]
• Muzyka CD
 [379]
• Słowniki
 [2932]
• Inne
 [445708]
• Kalendarze
 [1409]
• Podręczniki
 [164793]
• Poradniki
 [480107]
• Religia
 [510956]
• Czasopisma
 [511]
• Sport
 [61267]
• Sztuka
 [243299]
• CD, DVD, Video
 [3411]
• Technologie
 [219640]
• Zdrowie
 [100984]
• Książkowe Klimaty
 [124]
• Zabawki
 [2281]
• Puzzle, gry
 [3363]
• Literatura w języku ukraińskim
 [258]
• Art. papiernicze i szkolne
 [8020]
Kategorie szczegółowe BISAC

Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- And Nano-Technologies

ISBN-13: 9781402005244 / Angielski / Twarda / 2002 / 363 str.

Yves Pauleau; Y. Pauleau
Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- And Nano-Technologies Pauleau, Y. 9781402005244 Kluwer Academic Publishers - książkaWidoczna okładka, to zdjęcie poglądowe, a rzeczywista szata graficzna może różnić się od prezentowanej.

Chemical Physics of Thin Film Deposition Processes for Micro- And Nano-Technologies

ISBN-13: 9781402005244 / Angielski / Twarda / 2002 / 363 str.

Yves Pauleau; Y. Pauleau
cena 402,53
(netto: 383,36 VAT:  5%)

Najniższa cena z 30 dni: 385,52
Termin realizacji zamówienia:
ok. 22 dni roboczych.

Darmowa dostawa!

An up-to-date collection of tutorial papers on the latest advances in the deposition and growth of thin films for micro and nano technologies. The emphasis is on fundamental aspects, principles and applications of deposition techniques used for the fabrication of micro and nano devices. The deposition of thin films is described, emphasising the gas phase and surface chemistry and its effects on the growth rates and properties of films. Gas-phase phenomena, surface chemistry, growth mechanisms and the modelling of deposition processes are thoroughly described and discussed to provide a clear understanding of the growth of thin films and microstructures via thermally activated, laser induced, photon assisted, ion beam assisted, and plasma enhanced vapour deposition processes. A handbook for engineers and scientists and an introduction for students of microelectronics.

Kategorie:
Technologie
Kategorie BISAC:
Technology & Engineering > Electrical
Technology & Engineering > Materials Science - Thin Films, Surfaces & Interfaces
Science > Chemia - Fizyczna
Wydawca:
Kluwer Academic Publishers
Seria wydawnicza:
NATO Science
Język:
Angielski
ISBN-13:
9781402005244
Rok wydania:
2002
Wydanie:
2002
Numer serii:
000251602
Ilość stron:
363
Waga:
0.74 kg
Wymiary:
25.1 x 16.1 x 2.59
Oprawa:
Twarda
Wolumenów:
01
Dodatkowe informacje:
Bibliografia
Wydanie ilustrowane

Preface. List of Participants. List of Contributors. Electroplating and Electroless Deposition Processes for Electronic Components and Microsystems; T.E.G. Daenen, D.L. de Kubber. Self-Assembled Electroactive Ultrathin Films; T.P. Cassagneau. Feature and Mechanisms of Layer Growth in Liquid Phase Epitaxy of Semiconductor Materials; M. Konuma. Sol-Gel Deposition Processes of Thin Ceramic Films; D. Sporn, et al. Thin Film Deposition by Sol-Gel and CVD Processing of Metal-Organic Precursors; S. Mathur. Numerical Simulation of Flow and Chemistry in Thermal Chemical Vapor Deposition Processes; C.R. Kleijn. Chemical Vapor Deposition of Superconductor and Oxide Films; G. Wahl, et al. Selective Chemical Vapor Deposition; J. Holleman. Photochemical Vapour Deposition of Thin Films; S.J.C. Irvine. Reaction Mechanisms in Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition of Microstructures; Y. Pauleau, D. Tonneau. Proximal Probe Induced Chemical Processing for Nanodevice Elaboration; D. Tonneau, et al. Molecular Dynamics Simulation of Thin Film Growth with Energetic Atoms; C.M. Gilmore, J.A. Sprague. Deposition of Thin Films by Sputtering; W. Gulbinski. Mass-Transport in an Austenitic Stainless Steel under High-Flux, Low-Energy Nitrogen Ion Bombardment at Elevated Temperature; L. Pranevicius, et al. Index.



Udostępnij

Facebook - konto krainaksiazek.pl



Opinie o Krainaksiazek.pl na Opineo.pl

Partner Mybenefit

Krainaksiazek.pl w programie rzetelna firma Krainaksiaze.pl - płatności przez paypal

Czytaj nas na:

Facebook - krainaksiazek.pl
  • książki na zamówienie
  • granty
  • książka na prezent
  • kontakt
  • pomoc
  • opinie
  • regulamin
  • polityka prywatności

Zobacz:

  • Księgarnia czeska

  • Wydawnictwo Książkowe Klimaty

1997-2026 DolnySlask.com Agencja Internetowa

© 1997-2022 krainaksiazek.pl
     
KONTAKT | REGULAMIN | POLITYKA PRYWATNOŚCI | USTAWIENIA PRYWATNOŚCI
Zobacz: Księgarnia Czeska | Wydawnictwo Książkowe Klimaty | Mapa strony | Lista autorów
KrainaKsiazek.PL - Księgarnia Internetowa
Polityka prywatnosci - link
Krainaksiazek.pl - płatnośc Przelewy24
Przechowalnia Przechowalnia